Air-Oxidation of Nb Nano-Films

A. V. Lubenchenko; A. A. Batrakov; D. A. Ivanov; O. I. Lubenchenko; I. A. Lashkov; A. B. Pavolotsky; B. Schleicher; N. Albert; K. Nielsch

doi:10.1134/S1063782618050196

Air-Oxidation of Nb Nano-Films

Авторы: Lubenchenko A.V.¹, Batrakov A.A.¹, Ivanov D.A.¹, Lubenchenko O.I.¹, Lashkov I.A.¹, Pavolotsky A.B.², Schleicher B.³, Albert N.³, Nielsch K.³
Учреждения:
1. National Research University MPEI
2. Chalmers University of Technology
3. IFW Dresden, Institute for Metallic Materials
Выпуск: Том 52, № 5 (2018)
Страницы: 678-682
Раздел: XXV International Symposium “Nanostructures: Physics and Technology”, Saint Petersburg, Russia, June 26–30, 2017. Nanostructure Technology
URL: https://ogarev-online.ru/1063-7826/article/view/203412
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782618050196
ID: 203412

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ
Доступ закрыт

Доступ предоставлен
Доступ закрыт

Только для подписчиков

Аннотация
Об авторах
Список литературы
Дополнительные файлы
Статистика

Аннотация

X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) depth chemical and phase profiling of air-oxidized niobium nanofilms has been performed. It is found that oxide layer thicknesses depend on the initial thickness of the niobium nanofilm. The increase in thickness of the initial Nb nano-layer is due to increase in thickness of an oxidized layer.