Forming the GaN Nanocrystals on the Graphene-Like g-AlN and g-Si3N3 Surface


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The formation of GaN nanocrystals on the graphene-like AlN (g-AlN) modification and graphene-like (g-Si3N3) silicon nitride by ammonia molecular beam epitaxy has been investigated. It has been found that the GaN growth on the g-Si3N3 surface leads to the formation of misoriented nanocrystals. During the GaN growth on the g-AlN surface, the epitaxial growth of similarly oriented GaN quantum dots of the graphite-like modification has been observed. The lattice parameters and energy structure of two graphite-like GaN modifications with the alternating AB (graphite structure) and AA+ (hexagonal boron nitride structure) layers have been calculated.

Об авторах

A. Kozhukhov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090

I. Aleksandrov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090

N. Rzheutski

State Scientific and Production Association “Optics, Optoelectronics, and Laser Technology”

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Белоруссия, Minsk, 220072

E. Lebiadok

State Scientific and Production Association “Optics, Optoelectronics, and Laser Technology”

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Белоруссия, Minsk, 220072

E. Razumets

State Scientific and Production Association “Optics, Optoelectronics, and Laser Technology”

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Белоруссия, Minsk, 220072

K. Zhuravlev

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences; Novosibirsk State University

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090; Novosibirsk, 630090

D. Milakhin

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Автор, ответственный за переписку.
Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090

T. Malin

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090

V. Mansurov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090

Yu. Galitsyn

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: dmilakhin@isp.nsc.ru
Россия, Novosibirsk, 630090

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2019

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).