Electrochemical Deposition of Permalloy Films for Magneto-Semiconductor Microsystems


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The results of investigating local electrochemical deposition from a chloride electrolyte are presented. Ni81Fe19 permalloy films with magnetic properties similar to those of 3D samples with a uniform thickness and low mechanical stresses without high-temperature annealing are obtained. The dependences of the rate of congruent deposition of the permalloy on the current density are presented.

Об авторах

V. Amelichev

SMS “Technological Center”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

S. Polomoshnov

SMS “Technological Center”; National Research University “MIET”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498; Zelenograd, Moscow, 125993

N. Nikolaeva

SMS “Technological Center”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

R. Tikhonov

SMS “Technological Center”

Автор, ответственный за переписку.
Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

M. Kupriyanova

SMS “Technological Center”

Email: R.Tikhonov@tcen.ru
Россия, Zelenograd, Moscow, 124498

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).