English
Kazakh
Português (Brasil)
Русский
简体中文
Беттің Тақырыбы
Semiconductors
ISSN 1063-7826 (Print) ISSN 1090-6479 (Online)
Мәзір     Мұрағат
  • Бастапқы
  • Журнал туралы
    • Редакция тобы
    • Редакция саясаты
    • Авторларға арналған ережелер
    • Журнал туралы
  • Шығарылымдар
    • Іздеу
    • Ағымдағы шығарылым
    • Ретракцияланған мақалалар
    • Мұрағат
  • Байланыс
  • Барлық журналдар
  • Анықтамалық материалдар
    • Платформаны пайдалану бойынша нұсқаулық
    • RAS журналдарына арналған келісімге қол қою бойынша нұсқаулық
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер GaAs GaAs Substrate GaN Gallium Nitride Sapphire Substrate Versus Characteristic annealing carbon nanotubes doping exciton graphene heterostructure heterostructures luminescence molecular-beam epitaxy photoconductivity photoluminescence quantum dots quantum well silicon thin films
×
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер GaAs GaAs Substrate GaN Gallium Nitride Sapphire Substrate Versus Characteristic annealing carbon nanotubes doping exciton graphene heterostructure heterostructures luminescence molecular-beam epitaxy photoconductivity photoluminescence quantum dots quantum well silicon thin films
Бастапқы > Іздеу > Автор туралы ақпарат

Автор туралы ақпарат

Krivyakin, G. K.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 50, № 7 (2016) Semiconductor Structures, Low-Dimensional Systems, and Quantum Phenomena Optical properties of p–i–n structures based on amorphous hydrogenated silicon with silicon nanocrystals formed via nanosecond laser annealing
Том 51, № 10 (2017) Fabrication, Treatment, and Testing of Materials and Structures Formation and study of p–i–n structures based on two-phase hydrogenated silicon with a germanium layer in the i-type region
Том 52, № 2 (2018) Fabrication, Treatment, and Testing of Materials and Structures Ion-Beam Synthesis of the Crystalline Ge Phase in SiOxNy Films upon Annealing under High Pressure
Том 52, № 9 (2018) Semiconductor Structures, Low-Dimensional Systems, and Quantum Phenomena Study of the Structural and Emission Properties of Ge(Si) Quantum Dots Ordered on the Si(001) Surface
Том 52, № 9 (2018) Microcrystalline, Nanocrystalline, Porous, and Composite Semiconductors On the Formation of IR-Light-Emitting Ge Nanocrystals in Ge:SiO2 Films
Том 53, № 3 (2019) Fabrication, Treatment, and Testing of Materials and Structures Crystallization of Amorphous Germanium Films and Multilayer a-Ge/a-Si Structures upon Exposure to Nanosecond Laser Radiation
 

JOURNALS

Journals list

Search articles

LEGAL INFORMATION

Privacy Policy

User agreement

 

RCSI CONTATCS

phone: +7 (499) 941-01-15

address: Leninsky Prospekt 32a
Moscow, 119334

E-mail: info@rcsi.science

Technical support

E-mail: journals_support@rcsi.science 

PLATFORM POWERED BY

RUSSIAN CENTRE
FOR SCIENTIFIC INFORMATION

TOP