Etching of Disc and Ring Patterns in Si3N4/GaN Structure by Ga+ FIB


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The work presents experimental data of Ga+ focused ion beam etching of disc and ring patterns in Si3N4/GaN structure. The reasons for the difference in etching depth between the discs and the rings are described.

Ключевые слова

Об авторах

M. Mitrofanov

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: maxi.mitrofanov@gmail.com
Россия, St. Petersburg, 194021

G. Voznyuk

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: glebufa0@gmail.com
Россия, St. Petersburg, 194021

S. Rodin

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: s_rodin77@mail.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

W. Lundin

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: lundin.vpegroup@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. Evtikhiev

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: evtikhiev@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Tsatsulnikov

SHM R and E Center, Russian Academy of Sciences

Автор, ответственный за переписку.
Email: andrew@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2019

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).