Preparation and study of ferroelectric films of La0.7Sr0.3MnO3

Мұқаба

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

This paper presents the results of fabricating ferroelectric La0.7Sr0.3MnO3 (LSMO) thin films on silicon substrates. Oriented LSMO films were obtained using magnetron sputtering followed by annealing. Capacitance-voltage (C–V) measurements of the Ni-LSMO-Si metal-insulator-semiconductor (MIS) structures revealed that thermal treatment at 800 °C induces ferroelectric properties in the LSMO films. This is evidenced by a C–V hysteresis loop with a width of 5 V and a more than two-fold increase in the capacitance switching ratio. The demonstrated method shows promise for the integration of ferroelectric LSMO into silicon technology.

Авторлар туралы

V. Luzanov

Fryazino branch Kotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics RAS

Email: valery@luzanov.ru
Fryazino, Russian Federation

D. Belorusov

Fryazino branch Kotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics RAS

Fryazino, Russian Federation

G. Chucheva

Fryazino branch Kotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics RAS

Fryazino, Russian Federation

Әдебиет тізімі

  1. Шайхулов Т.А., Станкевич К.Л., Лузанов В.А. и др. // Письма в ЖТФ. 2023. Т. 49. № 12. С. 18.
  2. Annese E., Mori T.J.A., Schio P. et al. // J. Magn. Magn. Mater. 2020. V. 507. Article No. 166812.
  3. Гольдман Е.И., Ждан А.Г., Чучева Г.В. // ПТЭ. 1997. № 2. С. 110.

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Russian Academy of Sciences, 2025

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).