ЭФФЕКТИВНЫЕ МЕТОДЫ СИНТЕЗА И ОПТИМИЗАЦИИ ГОЛОГРАММНОЙ МАСКИ

Обложка

Цитировать

Полный текст

Аннотация

Описаны эффективные алгоритмы синтеза голографических масок на основе БПФ со сложностью O(NlnN), где N – количество элементов изображаемого объекта. Разработан и внедрен масштабируемый программный комплекс, позволяющий синтезировать голограммные маски для различных приложений литографии, включая производство МЭМС, MOEMС и микросхем высокого класса. Предложены решения проблем оптимизации качества голографических изображений и повышения дифракционной эффективности.

Об авторах

В. В. Черник

Институт проблем механики им. А.Ю. Ишлинского Российской академии наук

Автор, ответственный за переписку.
Email: gungho424@gmail.com
Россия, Москва

Список литературы

  1. Борисов М.В., Боровиков В.А., Гавриков А.А., Князьков Д.Ю., Раховский В.И., Челюбеев Д.А., Шамаев А.С. Методы создания и коррекции качества голографических изображений геометрических объектов с элементами субволновых размеров // ДАН. 2010. Т. 434. № 3. С. 332–336.
  2. Rakhovsky V., Knyazkov D., Shamaev A., Chernik V., Gavrikov A., Chelyubeev D., Mikheev P., Borisov M. // Proc. European Mask and Lithography Conference. SPIE. 2012. V. 8352. 83520P.
  3. Черник В.В. // Журнал Радиоэлектроники. 2017. № 1. С. 1–20.
  4. Gabor D.A. // Nature. 1948. № 161. P. 777–778.
  5. Колфилд Г. Оптическая голография. М.: Мир, 1982. 376 с.
  6. Mack C.A. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication.: John Wiley & Sons, 2007. 417 p.
  7. Басс Ф.Г., Фукс И.М. Рассеяние волн на статистически неровной поверхности. М.: Наука, 1972. 424 с.
  8. Черник В.В. // Труды VI международной конференции “Параллельные вычисления и задачи управления”. PACO’2012. Т. II. 2012.
  9. Михеев П.А. // Вестн. Моск. ун-та. Сер. 15: Вычислительная математика и кибернетика. 2014. Т. 1. С. 15–22.
  10. Borisov M., Chernik V., Merkushov L., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors. MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV. 113241J (2020) https://doi.org/10.1117/12.2552013
  11. Borisov M., Chernik V., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV; 1132417 (2020). https://doi.org/10.1117/12.2551936

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
2.

Скачать (620KB)
3.

Скачать (563KB)
4.

Скачать (263KB)
5.


© В.В. Черник, 2023

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).