Исследование ВУФ-излучения плазмы и структуры магнетронного разряда постоянного тока
- Авторы: Паль А.Ф.1, Рябинкин А.Н.1, Серов А.О.1, Лопаев Д.В.1, Манкелевич Ю.А.1, Рахимов А.Т.1, Рахимова Т.В.1
-
Учреждения:
- Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
- Выпуск: Том 118, № 2 (2023): ТЕМАТИЧЕСКИЙ БЛОК: ФУНДАМЕНТАЛЬНЫЕ ПРОБЛЕМЫ МНОГОУРОВНЕВЫХ СИСТЕМ МЕТАЛЛИЗАЦИИ УЛЬТРАБОЛЬШИХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ
- Страницы: 105-112
- Раздел: Тематический блок
- URL: https://ogarev-online.ru/1605-8070/article/view/301388
- DOI: https://doi.org/10.22204/2410-4639-2023-118-02-105-112
- ID: 301388
Цитировать
Полный текст
Аннотация
Представлены результаты исследований плазмы магнетронного разряда постоянного тока, полученные в рамках проекта РФФИ №18-29-27001. Методом PIC MC исследована структура магнетронного разряда при давлениях 1–10 мТорр при токе разряда 0.5 А. Показано, что прикатодная область, где падает почти всё напряжение разряда, состоит из тонкого катодного слоя (0.1–0.2 мм) и широкого предслоя (~2 см), в котором происходит бо´льшая часть ионизаций. Отношение напряжений, падающих в слое и предслое, линейно увеличивается с давлением. Зависимость напряжения разряда от давления газа имеет минимум около 3 мТорр. При давлениях 2–12 мТорр измерена интенсивность вакуумного УФ (ВУФ) излучения. На подложке, расположенной в 10 см от катода, она составляет порядка 1015 фотонов/(см2с) при скорости осаждения покрытия 1.5 нм/с. Интенсивность пропорциональна току разряда и уменьшается с давлением.
Ключевые слова
Об авторах
Александр Фридрихович Паль
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Автор, ответственный за переписку.
Email: apal@mics.msu.su
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2
Алексей Николаевич Рябинкин
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Email: alex.ryabinkin@gmail.com
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2
Александр Олегович Серов
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Email: aserov@mics.msu.su
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2
Дмитрий Викторович Лопаев
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Email: d.lopaev@gmail.com
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2
Юрий Александрович Манкелевич
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Email: ymankelevich@mics.msu.ru
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2
Александр Турсунович Рахимов
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Email: arakhimov@mics.msu.ru
профессор
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2Татьяна Викторовна Рахимова
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына, МГУ им. М.В. Ломоносова
Email: trakhimova@mics.msu.ru
Россия, 119991, Россия, Москва, ГСП-1, Ленинские горы, 1-2
Список литературы
- P. Kelly, R. Arnell Vacuum, 2000, 56(3), 159. doi: 10.1016/S0042-207X(99)00189-X.
- U. Helmersson, M. Lattemann, J. Bohlmark, A.P. Ehiasarian, J.T. Gudmundsson Thin Solid Films, 2006, 513(1–2), 1. doi: 10.1016/j.tsf.2006.03.033.
- A.F. Pal, A.N. Ryabinkin, A.O. Serov, D.V. Lopaev, Y.A. Mankelevich, A.T. Rakhimov, T.V. Rakhimova, M.R. Baklanov J. Phys. D. Appl. Phys., 2020, 53(29), 295202. doi: 10.1088/1361-6463/ab813f.
- J.W. Bradley, S. Thompson, Y.A. Gonzalvo Plasma Sources Sci. Technol., 2001, 10(3), 490. doi: 10.1088/0963-0252/10/3/314.
- O. Baranov, M. Romanov, M. Wolter, S. Kumar, X. Zhong, K. Ostrikov Phys. Plasmas, 2010, 17(5), 053509. doi: 10.1063/1.3431098.
- C. Huo, D. Lundin, M.A. Raadu, A. Anders, J.T. Gudmundsson, N. Brenning Plasma Sources Sci. Technol., 2013, 22(4), 045005. doi: 10.1088/0963-0252/22/4/045005.
- N. Brenning, J.T. Gudmundsson, D. Lundin, T. Minea, M.A. Raadu, U. Helmersson Plasma Sources Sci. Technol., 2016, 25(6), 065024. doi: 10.1088/0963-0252/25/6/065024.
- S. Kondo, K. Nanbu J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film., 2001, 19(3), 830. doi: 10.1116/1.1359534.
- I. Kolev, A. Bogaerts, R. Gijbels Phys. Rev. E., 2005, 72(5), 056402. doi: 10.1103/PhysRevE.72.056402.
- I. Kolev, A. Bogaerts IEEE Trans. Plasma Sci., 2006, 34(3), 886. doi: 10.1109/TPS.2006.875843.
- E. Bultinck, A. Bogaerts J. Phys. D. Appl. Phys., 2008, 41(20), 202007. doi: 10.1088/0022-3727/41/20/202007.
- A. Revel, T. Minea, C. Costin Plasma Sources Sci. Technol., 2018, 27(10), 105009. doi: 10.1088/1361-6595/aadebe.
- S. Uchida, S. Takashima, M. Hori, M. Fukasawa, K. Ohshima, K. Nagahata, T. Tatsumi J. Appl. Phys., 2008, 103(7), 073303. doi: 10.1063/1.2891787.
- H. Shi, H. Huang, J. Bao, J. Liu, P.S. Ho, Y. Zhou, J.T. Pender, M.D. Armacost, D. Kyser J. Vac. Sci. Technol. B, 2012, 30(1), 011206. doi: 10.1116/1.3671008.
- T.V. Rakhimova, A.T. Rakhimov, Y.A. Mankelevich, D.V. Lopaev, A.S. Kovalev, A.N. Vasileva, O.V. Proshina, O.V. Braginsky, S.M. Zyryanov, K. Kurchikov, N.N. Novikova, M.R. Baklanov Appl. Phys. Lett., 2013, 102(11), 111902. doi: 10.1063/1.4795792.
- T.V. Rakhimova, A.T. Rakhimov, Y.A. Mankelevich, D.V. Lopaev, A.S. Kovalev, A.N. Vasil’eva, S.M. Zyryanov, K. Kurchikov, O.V. Proshina, D.G. Voloshin, N.N. Novikova, M.B. Krishtab, M.R. Baklanov J. Phys. D. Appl. Phys., 2014, 47(2), 025102. doi: 10.1088/0022-3727/47/2/025102.
- A.N. Ryabinkin, A.O. Serov, A.F. Pal, Y.A. Mankelevich, A.T. Rakhimov, T.V. Rakhimova Plasma Sources Sci. Technol. IOP Publishing, 2021, 30(5), 055009. doi: 10.1088/1361-6595/abf31e.
- Y.A. Mankelevich, A.F. Pal, A.N. Ryabinkin, A.O. Serov J. Phys. Conf. Ser., 2018, 946(1), 012150. doi: 10.1088/1742-6596/946/1/012150.
- NIST Atomic Spectra Database (https://physics.nist.gov/asd). doi: 10.18434/T4W30F.
- S. Espinho, E. Felizardo, J. Henriques, E. Tatarova J. Appl. Phys., 2017, 121(15), 153303. doi: 10.1063/1.4981535.
Дополнительные файлы
