Interaction between antimony atoms and micropores in silicon


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The interaction between Sb atoms and micropores of a getter layer in silicon is studied. The getter layer was obtained via implantation of Sb+ ions into silicon and subsequent heat treatment processes. The antimony atoms located in the vicinity of micropores are captured by micropores during gettering annealing and lose its electrical activity. The activation energy of capture process to the pores for antimony is lower than that of antimony diffusion in silicon deformation fields around microvoids on the diffusion process.

Об авторах

V. Odzhaev

Belarusian State University

Email: chelyadinski@bsu.by
Белоруссия, Minsk, 220030

A. Petlitskii

Integral

Email: chelyadinski@bsu.by
Белоруссия, Minsk

V. Plebanovich

Planar

Email: chelyadinski@bsu.by
Белоруссия, Minsk

P. Sadovskii

Belarusian State University

Email: chelyadinski@bsu.by
Белоруссия, Minsk, 220030

M. Tarasik

Belarusian State University

Email: chelyadinski@bsu.by
Белоруссия, Minsk, 220030

A. Chelyadinskii

Belarusian State University

Автор, ответственный за переписку.
Email: chelyadinski@bsu.by
Белоруссия, Minsk, 220030

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).