Relaxation of the electric current in Si3N4: Experiment and numerical simulation


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The relaxation of the electric current in a metal–nitride–oxide–semiconductor structure has been measured experimentally. The experiment has been compared with the calculation based on the two-band conduction model and the multiphonon mechanism of the ionization of traps. The upper estimate obtained for the recombination cross section from the comparison of the experiment with the calculation is found to be 5 × 10–13 cm2.

Авторлар туралы

Yu. Novikov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: nov@isp.nsc.ru
Ресей, pr. Akademika Lavrentieva 13, Novosibirsk, 630090

V. Gritsenko

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch; Novosibirsk State University

Email: nov@isp.nsc.ru
Ресей, pr. Akademika Lavrentieva 13, Novosibirsk, 630090; ul. Pirogova 2, Novosibirsk, 630090

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017