Tight-binding simulation of silicon and germanium nanocrystals


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

This review is devoted to the modeling of Si and Ge nanocrystals by means of the tight-binding method. First we give the short outline of the modeling methods and their application for the discription of silicon and germanium nanocrystals. Then, the tight-binding method with extended s, p, d, and s* basis is explained in details and the results obtained with the use of this method are presented.

Об авторах

A. Gert

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

M. Nestoklon

Ioffe Institute

Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Prokofiev

Ioffe Institute

Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

I. Yassievich

Ioffe Institute

Email: anton.gert@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).