English
Kazakh
Português (Brasil)
Русский
简体中文
Cabeçalho da Página
Semiconductors
ISSN 1063-7826 (Print) ISSN 1090-6479 (Online)
Menu     Arquivos
  • Página principal
  • Sobre a Revista
    • Equipe Editorial
    • Política Editorial
    • Diretrizes para Autores
    • Sobre a Revista
  • Edições
    • Pesquisa
    • Edição corrente
    • Artigos retraídos
    • Arquivos
  • Contatos
  • Todas as revistas
Usuário
Esqueceu a senha? Cadastro
Notificações
  • Ver
  • Assinar
Conteúdo da revista
Navegar
  • Edições
  • Por autor
  • por título
  • por Seção
  • Outras Revistas
Assinatura Entrar no sistema para verificar sua assinatura
Palavras-chave GaAs GaAs Substrate GaN Gallium Nitride Sapphire Substrate Versus Characteristic annealing carbon nanotubes doping exciton graphene heterostructure heterostructures luminescence molecular-beam epitaxy photoconductivity photoluminescence quantum dots quantum well silicon thin films
×
Usuário
Esqueceu a senha? Cadastro
Notificações
  • Ver
  • Assinar
Conteúdo da revista
Navegar
  • Edições
  • Por autor
  • por título
  • por Seção
  • Outras Revistas
Assinatura Entrar no sistema para verificar sua assinatura
Palavras-chave GaAs GaAs Substrate GaN Gallium Nitride Sapphire Substrate Versus Characteristic annealing carbon nanotubes doping exciton graphene heterostructure heterostructures luminescence molecular-beam epitaxy photoconductivity photoluminescence quantum dots quantum well silicon thin films
Página principal > Pesquisa > Informaçao sobre o Autor

Informaçao sobre o Autor

Balakshin, Yu. V.

Edição Seção Título Arquivo
Volume 51, Nº 6 (2017) Nonelectronic Properties of Semiconductors (Atomic Structure, Diffusion) Study of the distribution profile of iron ions implanted into silicon
Volume 53, Nº 6 (2019) Surfaces, Interfaces, and Thin Films Features of Defect Formation in Nanostructured Silicon under Ion Irradiation
Volume 53, Nº 8 (2019) Nonelectronic Properties of Semiconductors (Atomic Structure, Diffusion) Influence of the Charge State of Xenon Ions on the Depth Distribution Profile Upon Implantation into Silicon
Volume 53, Nº 12 (2019) Carbon Systems Modification of Carbon-Nanotube Wettability by Ion Irradiation
 

JORNAIS

Lista de periódicos

Pesquisar artigos

INFORMAÇÕES LEGAIS

Política de privacidade

Contrato do usuário

 

RCSI CONTATOS

telefone: +7 (499) 941-01-15

endereço: Leninsky Prospekt 32a
Moscou, 119334

E-mail: info@rcsi.science

PLATAFORMA ALIMENTADA POR

RUSSIAN CENTRE
FOR SCIENTIFIC INFORMATION

TOP