ВЛИЯНИЕ ЛАЗЕРНОГО ОБЛУЧЕНИЯ НА ЭКСПРЕССИЮ ФАКТОРА РОСТА СОСУДИСТОГО ЭНДОТЕЛИЯ В ТКАНИ ЩИТОВИДНОЙ ЖЕЛЕЗЫ НА ФОНЕ ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОГО ГИПОТИРЕОЗА

Целью исследования являлось изучение воздействия инфракрасного лазерного облучения в дозах 112 Дж/см2 и 450 Дж/см2 на экспрессию фактора роста сосудистого эндотелия (VEGF) в ткани щитовидной железы в норме и при гипотиреозе. Эксперимент проведен на 30 лабораторных крысах самцах. Животные выводились из эксперимента через сутки после облучения. Экспрессия фактора роста сосудистого эндотелия определялась иммуногистохимическим методом. Показано, что лазерное воздействие в изучаемых дозах способствует повышению экспрессии VEGF в щитовидной железе интактных животных и, в большей степени, животных с моделью гипотиреоза. При сравнении эффектов двух изучаемых режимов лазерного воздействия выявлено, что экспрессия VEGF выше при облучении суммарной плотностью дозы с поверхности кожи 450 Дж/см2. Полученные результаты могут быть использованы для дальнейшей разработки методов лазеротерапии гипотиреоза в эксперименте.

лазерное излучение, щитовидная железа, гипотиреоз