Отправить статью по E-mail Исследование методов анизотропного плазмохимического травления low-k слоев с защитой пористой структуры материала
- Авторы: Мяконьких А.В.1, Гайдукасов Р.А.1, Кузьменко В.О.1
-
Учреждения:
- Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН
- Выпуск: Том 118, № 2 (2023): ТЕМАТИЧЕСКИЙ БЛОК: ФУНДАМЕНТАЛЬНЫЕ ПРОБЛЕМЫ МНОГОУРОВНЕВЫХ СИСТЕМ МЕТАЛЛИЗАЦИИ УЛЬТРАБОЛЬШИХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ
- Страницы: 88-94
- Раздел: Тематический блок
- URL: https://ogarev-online.ru/1605-8070/article/view/301146
- DOI: https://doi.org/10.22204/2410-4639-2023-118-02-88-94
- ID: 301146
Цитировать
Полный текст
Аннотация
В статье обобщаются результаты исследования процессов криогенного плазменного травления диэлектриков с ультранизкой диэлектрической проницаемостью для применения в системах металлизации интегральных схем с проектной нормой менее 10 нм. Рассмотрены механизмы деградации пленок в процессе плазменного травления и исследуется подход, основанный на адсорбции в порах сконденсированного плазмообразующего газа. Приведены экспериментальные результаты, касающиеся разработки и применения методов контроля заполнения пор пленки in situ. Приведены результаты исследования параметров плазмы бромсодержащих газов (CF3Br и C2F4Br2) и характера деградации химического состава пленок после травления. Для сравнения эти же характеристики приведены для применявшейся ранее плазмы CF4.
Об авторах
Андрей Валерьевич Мяконьких
Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН
Автор, ответственный за переписку.
Email: miakonkikh@ftian.ru
Россия, 117218, Россия, Москва, Нахимовский проспект, 34
Рафаэль Алексеевич Гайдукасов
Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН
Email: gaydukasov.r@gmail.com
Россия, 117218, Россия, Москва, Нахимовский проспект, 34
Виталий Олегович Кузьменко
Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН
Email: kuzmenko@ftian.ru
Россия, 117218, Россия, Москва, Нахимовский проспект, 34
Список литературы
- W. Volksen, R.D. Miller, G. Dubois Chem. Rev., 2010, 110(1), 56. doi: 10.1021/cr9002819.
- D. Shamiryan, M.R. Baklanov, S. Vanhaelemeersch, K. Maex J. Vac. Sci. Technol. B, 2002, 20(5), 1923. doi: 10.1116/1.1502699.
- A. Rezvanov, A.V. Miakonkikh, A.S. Vishnevskiy, K.V. Rudenko, M.R. Baklanov J. Vac. Sci. Technol. B, 2017, 35(2), 021204. doi: 10.1116/1.4975646.
- A. Zotovich, A. Rezvanov, R. Chanson, L. Zhang, N. Hacker, K. Kurchikov, S. Klimin, S.M. Zyryanov, D. Lopaev, E. Gornev, I. Clemente, A. Miakonkikh, K. Maslakov J. Phys. D, 2018, 51(32), 325202. doi: 10.1088/1361-6463/aad06d.
- A.A. Rezvanov, A.V. Miakonkikh, D.S. Seregin, A.S. Vishnevskiy, K.A. Vorotilov, K.V. Rudenko, M.R. Baklanov J. Vac. Sci. Technol. A, 2020, 38(3), 033005. doi: 10.1116/1.5143417.
- A. Miakonkikh, V. Kuzmenko, A. Efremov, K. Rudenko Vacuum, 2022, 200(5), 110991. doi: 10.1016/j.vacuum.2022.110991.
- H.G. Tompkins A User's Guide to Ellipsometry, USA, NY, New York, Academic Press, 1993, 260 pp. doi: 10.1016/C2009-0-22336-1.
- V. Rouessac, A. Lee, F. Bosc, J. Durand, A. Ayral Micropor. Mesopor. Mater., 2008, 111(1–3), 417. doi: 10.1016/j.micromeso.2007.08.033.
- T. Li, A.J. Senesi, B. Lee Chem. Rev., 2016, 116(18), 11128. doi: 10.1021/acs.chemrev.5b00690.
- D.W. Gidley, H.-G. Peng, R.S. Vallery Annu. Rev. Mater. Res., 2006, 36(1), 49. doi: 10.1146/annurev.matsci.36.111904.135144.
- А.А. Орлов, А.А. Резванов, А.В. Мяконьких Nanoindustry, 2020, 96(3s), 684. doi: 10.22184/1993-8578.2020.13.3s.684.687.
- S. Matsuo Appl. Phys. Lett., 1980, 36(9), 768. doi: 10.1063/1.91651.
- M. Engelhardt, S. Schwarz J. Electrochem. Soc., 1987, 134, 1985. doi: 10.1149/1.2100803.
- D.L. Flamm, P.L. Cowan, J.A. Golovchenko J. Vac. Sci. Tech., 1980, 17, 1341. doi: 10.1116/1.570667.
- D.V. Lopaev, Yu.A. Mankelevich, T.V. Rakhimova, A.I. Zotovich, S.M. Zyryanov, M.R. Baklanov J. Phys. D: Appl. Phys., 2017, 50, 485202. doi: 10.1088/1361-6463/aa92a7.
- S.V. Avtaeva, D.K. Otorbaev J. Phys. D: Appl. Phys., 1993, 26, 2148. doi: 10.1088/0022-3727/26/12/009.
Дополнительные файлы
