Конструктивное исполнение периферийного участка пальцев мощных сверхвысокочастотных латеральных транзисторов

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Проведен обзор и исследование вариантов конструктивного исполнения периферийных участков пальцев СВЧ LDMOS транзисторов. Исследование проводилось посредством 3D моделирования в САПР Sentaurus TCAD. Определены варианты конструкции, позволяющие обеспечить уровень напряжения пробоя сток-исток на периферии не ниже, чем в рабочей части пальца.

Об авторах

Р. П. Алексеев

АО «Научно-исследовательский институт электронной техники»

Email: arp@niiet.ru
ул. Старых Большевиков, 5, Воронеж, 394033 Российская Федерация

П. В. Пролубников

АО «Научно-исследовательский институт электронной техники»

ул. Старых Большевиков, 5, Воронеж, 394033 Российская Федерация

В. В. Мальцев

АО «Научно-исследовательский институт электронной техники»

ул. Старых Большевиков, 5, Воронеж, 394033 Российская Федерация

П. Л. Куршев

АО «Научно-исследовательский институт электронной техники»

ул. Старых Большевиков, 5, Воронеж, 394033 Российская Федерация

А. Н. Цоцорин

АО «Научно-исследовательский институт электронной техники»

ул. Старых Большевиков, 5, Воронеж, 394033 Российская Федерация

И. В. Семейкин

АО «Научно-исследовательский институт электронной техники»

ул. Старых Большевиков, 5, Воронеж, 394033 Российская Федерация

Список литературы

  1. Алексеев Р.П., Цоцорин А.Н., Черных М.И. // Электроника НТБ. 2020. Т. 00195. № 4. С. 98.
  2. Алексеев Р.П., Семейкин И.В., Цоцорин А.Н., Куршев П.Л. // Электроника НТБ. 2023. Т. 00223. № 2. С. 92.
  3. Theeuwen S.J.C.H., Mollee H., Heeres R., van Rijs F. // 2018 13th European Microwave Integrated Circuits Conf. (EuMIC). Madrid. 23–25 Sept. N.Y.: IEEE, 2018. P. 162.
  4. Алексеев Р.П., Семейкин И.В., Цоцорин А.Н., Куршев П.Л. // ФТП. 2022. Т. 56. № 11. С. 1088.
  5. Tкачев А.Ю., Петров Б.К., Асессоров В.В. и др. // Вестник ВГТУ. 2010. Т. 6. № 5. С. 112.
  6. Алексеев Р.П., Быкадорова Г.В., Бормонтов Е.Н. // Энергия-XXI век. 2016. Т. 93. № 1. С. 68.
  7. Бачурин В.В., Корнеев С.В., Крымко М.М. // Способ изготовления СВЧ LDMOS-транзисторов. Патент РФ на изобретение № 2 498 448. Опубл. офиц. бюл. «Изобретения. Полезные модели» № 31 от 10.11.2013.
  8. Theeuwen S.J.C.H., van Rijs F., Hammes P.C.A. et al. // Electric Device Comprising an LDMOS Transistor. US Patent № 7 521.768 B2. Publ. 21.04.2009.
  9. De Boet J.A.M., Peuscher H.J., Bron P., Theeu- wen S.J.C.H. // LDMOS Having a Field Plate. US Patent № 8.450 802 B2. Publ. 28.05.2013.
  10. Theeuwen S.J.C.H., Qureshi J.H. // IEEE Trans. 2012. V. VTT-60 № 6. P. 1755.
  11. Chandler P.R. // High Voltage Semiconductor Device and Method of Fabrication. Patent US № 10 886 39. Publ. 05.01.2021.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Российская академия наук, 2025

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).