A High-Current Electron Gun Integrated with a Magnetron Sputtering System

P. P. Kiziridi; A. B. Markov; G. E. Ozur; A. G. Padey; E. V. Yakovlev

doi:10.1134/S0020441218020161

A High-Current Electron Gun Integrated with a Magnetron Sputtering System

Авторлар: Kiziridi P.P.¹, Markov A.B.¹, Ozur G.E.¹, Padey A.G.¹, Yakovlev E.V.¹
Мекемелер:
1. Institute of High Current Electronics, Siberian Branch
Шығарылым: Том 61, № 3 (2018)
Беттер: 433-435
Бөлім: Laboratory Techniques
URL: https://ogarev-online.ru/0020-4412/article/view/160254
DOI: https://doi.org/10.1134/S0020441218020161
ID: 160254

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

The description and the main performance specifications are presented for a device in which a high-current electron gun and a magnetron sputtering system are integrated in a common casing. This device is efficient for surface alloying on metallic materials. It is shown that the magnetic system of the magnetron does not degrade the characteristics of an electron beam that is formed in the gun and passed through a hole in the magnetron sputtering system.