Heterobarrier Varactors with Nonuniformly Doped Modulation Layers


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Optimum shape of the capacitance–voltage (CV) characteristic is a critical parameter determining the efficiency of frequency multiplication in heterobarrier varactors (HBVs) operating in the millimeter and submillimeter frequency ranges. A numerical model for calculating the CV characteristics and leakage currents of HBV heterostructures with arbitrary composition and doping profiles has been verified on the basis of published and original experimental data. A specially designed HBV heterostructure with three undoped InAlAs/AlAs/InAlAs barriers surrounded by nonuniformly doped n-InGaAs modulation layers has been grown by molecular beam epitaxy on InP substrate. Prototype HBVs manufactured using the proposed heterostructure demonstrated a nearly cosine shape of the CV curve at bias voltages up to 2 V, increased overlap capacitance, and low leakage currents.

Об авторах

N. Maleev

Ioffe Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

M. Bobrov

Ioffe Institute

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Kuzmenkov

Submicron Heterostructures for Microelectronics, Research & Engineering Center, Russian Academy of Sciences

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Vasil’ev

Submicron Heterostructures for Microelectronics, Research & Engineering Center, Russian Academy of Sciences

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

M. Kulagina

Ioffe Institute

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

Yu. Guseva

Ioffe Institute

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

S. Blokhin

Ioffe Institute

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. Ustinov

Submicron Heterostructures for Microelectronics, Research & Engineering Center, Russian Academy of Sciences; Saint Petersburg Electrotechnical University “LETI”

Email: maleev@beam.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021; St. Petersburg, 197022

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2019

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).