Specific features of proton interaction with transistor structures having a 2D AlGaN/GaN channel


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

It has been shown that the interaction of 1 MeV protons at doses of (0.5–2) × 1014 cm–2 with transistor structures having a 2D AlGaN/GaN channel (AlGaN/GaN HEMTs) is accompanied not only by the generation of point defects, but also by the formation of local regions with a disordered nanomaterial. The degree of disorder of the nanomaterial was evaluated by multifractal analysis methods. An increase in the degree of disorder of the nanomaterial, manifested the most clearly at a proton dose of 2 × 1014 cm–2, leads to several-fold changes in the mobility and electron density in the 2D channel of HEMT structures. In this case, the transistors show a decrease in the source–drain current and an order-of-magnitude increase in the gate leakage current. In HEMT structures having an enhanced disorder of the nanomaterial prior to exposure to protons, proton irradiation results in suppression of the 2D conductivity in the channel and failure of the transistors, even at a dose of 1 × 1014 cm–2.

Об авторах

V. Emtsev

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

E. Zavarin

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

M. Kozlovskii

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

M. Kudoyarov

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. Lundin

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

G. Oganesyan

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. Petrov

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

D. Poloskin

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Sakharov

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

S. Troshkov

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

N. Shmidt

Ioffe Physical Technical Institute

Автор, ответственный за переписку.
Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. V’yuginov

Svetlana-Elektronpribor Company

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

A. Zybin

Svetlana-Elektronpribor Company

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

Ya. Parnes

Svetlana-Elektronpribor Company

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

S. Vidyakin

Bauman Moscow State Technical University

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, Moscow, 105005

A. Gudkov

Bauman Moscow State Technical University

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, Moscow, 105005

A. Chernyakov

Submicron Heterostructures for Microelectronics Research and Engineering Center

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 194021

V. Kozlovskii

Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University

Email: Natalia.Shmidt@mail.ioffe.ru
Россия, St. Petersburg, 195251

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).